HT-PEMFC کے لیے 1um Platinized Titanium Expanded Mesh

TOPTITECH کا 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم ایکسپنڈڈ میش برائے HT-PEMFC چپٹی اور اینیلڈ ASTM B265 CP-Ti پھیلی ہوئی میش سے شروع ہوتا ہے، پھر تقریباً 1µm موٹائی پر ایک کنٹرول شدہ پلاٹینیم کوٹنگ حاصل کرتا ہے۔ یہ پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم میش ہائی-درجہ حرارت پروٹون ایکسچینج جھلی ایندھن کے خلیوں میں اینوڈ-سائیڈ گیس ڈفیوژن لیئر (GDL) کے طور پر کام کرتا ہے۔ کاربن-کی بنیاد پر GDL مواد اعلی انوڈک پوٹینشل اور آکسیجن ایوولوشن ری ایکشن (OER) حالات کے تحت آکسائڈائز ہوتے ہیں، CO₂ میں تبدیل ہوتے ہیں اور اسٹیک کمپریشن اور رابطہ مزاحمت کو کم کرتے ہیں۔ ننگا ٹائٹینیم کاربن کے استعمال سے گریز کرتا ہے لیکن ایک غیر فعال TiO₂ پرت کو اگاتا ہے جو انٹرفیشل مزاحمت کو بڑھاتا ہے۔ پلاٹینم کی تہہ عام HT-PEMFC آپریٹنگ درجہ حرارت (120–200 ڈگری) پر سطح کی چالکتا کو برقرار رکھتے ہوئے TiO₂ کی تشکیل کو روکتی ہے۔

TOPTITECH کا 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم ایکسپینڈ میش برائے HT-PEMFC گیس کی یکساں تقسیم اور پانی کے انتظام کے لیے درکار کھلے ڈائمنڈ-کی شکل کا ڈھانچہ فراہم کرتا ہے۔ پھیلی ہوئی میش بنے ہوئے میش سے زیادہ میکانکی سالمیت فراہم کرتی ہے، جس میں تاروں کو بغیر ویلڈڈ چوراہوں کے مسلسل شیٹ میں ضم کیا جاتا ہے۔ چپٹا پروفائل جھلی کے پنکچر کے خطرے کو کم کرتا ہے اور الیکٹروڈ اسمبلی میں مسلسل رابطے کے دباؤ کو یقینی بناتا ہے۔ ٹائٹینیم فاسفورک ایسڈ-ڈوپڈ پی بی آئی جھلی کے ماحول میں سنکنرن مزاحمت فراہم کرتا ہے جہاں سٹینلیس سٹیل یا نکل کے مرکب خراب ہوتے ہیں۔ 1µm کوٹنگ کی موٹائی چالکتا اور لاگت کو متوازن کرتی ہے: پتلی کوٹنگز تحفظ سے محروم ہو جاتی ہیں، موٹی موٹائی کارکردگی میں اضافے کے بغیر اخراجات میں اضافہ کرتی ہے۔

• مواد: GR1 ٹائٹینیم
• تاکنا سائز: 2 * 3 ملی میٹر
• موٹائی: 0.5 ملی میٹر
• سائز: 55 * 55 ملی میٹر
• کوٹنگ: 1um پلاٹینم کوٹنگ

• TiO₂ Passivation پرت کی تشکیل کو روکتا ہے۔

اعلی انوڈک پوٹینشل اور آکسیجن سے بھرپور ماحول میں بے نقاب ٹائٹینیم-فائبر کی سطح پر موصلیت بخش TiO₂ تہہ تیار کرتا ہے، بتدریج انٹرفیشل کانٹیکٹ ریزسٹنس (ICR) کو بلند کرتا ہے اور سیل کی کارکردگی کو گھٹاتا ہے HT-PEMFC آپریٹنگ درجہ حرارت (120–200 ڈگری)۔

• کاربن جی ڈی ایل آکسیکرن کی ناکامی کو ختم کرتا ہے۔

کاربن-بیسڈ گیس ڈفیوژن لیئرز (کاربن پیپر/کاربن کپڑا) انوڈ سائیڈ پر تھرموڈینامک طور پر چلنے والی آکسیکرن سے گزرتی ہیں: C + O²⁻ → CO₂↑، جس سے تیزی سے کھپت، کمپریشن کی سالمیت کا نقصان، اور ناقابل واپسی اسٹیک مزاحمت میں اضافہ ہوتا ہے اور پلاٹینائزڈ پلاٹینیم کے لیے HT-PEMFC بغیر سنکنرن یا مواد کی کمی کے کاربن-مفت آپریشن فراہم کرتا ہے۔

• توسیع شدہ میش ساختی سالمیت فراہم کرتا ہے۔

توسیع شدہ دھاتی تانے بانے ہیرے کی شکل کے سوراخوں کو تیار کرتا ہے جس میں تاروں اور نوڈس کو بغیر ویلڈڈ انٹرسیکشن کے مسلسل شیٹ میں ضم کیا جاتا ہے، جو بنے ہوئے میش متبادل کے مقابلے میں اسٹیک کمپریشن کے تحت اعلی میکانکی استحکام فراہم کرتا ہے۔ چپٹی اور اینیلڈ سطح کا پروفائل جھلی کے پنکچر کے خطرے کو کم کرتا ہے اور MEA میں مسلسل رابطے کے دباؤ کو یقینی بناتا ہے۔

• بڑے پیمانے پر منتقلی اور گیس کی تقسیم کو زیادہ سے زیادہ کرتا ہے۔

کھلی ڈائمنڈ-کی شکل کا تاکنا ڈھانچہ الیکٹروڈ ایکٹیو ایریا میں یکساں ہائیڈروجن اور ری ایکٹنٹ گیس کی تقسیم کو قابل بناتا ہے جبکہ کیتھوڈ سائیڈ سے تیزی سے پانی نکالنے میں سہولت فراہم کرتا ہے، اعلی-موجودہ-کثافت HT-PEMFC آپریشن کے تحت مقامی سیلاب کو روکتا ہے۔

• تیزابی ماحول کی مطابقت کو یقینی بناتا ہے۔

گریڈ 1 CP-Ti سبسٹریٹ پلاٹینم کوٹنگ کے ساتھ مل کر فاسفورک ایسڈ کا مقابلہ کرتا ہے-ڈوپڈ PBI جھلی کے ماحول میں جہاں سٹینلیس سٹیل یا نکل کے مرکب گڑھے سنکنرن یا تحلیل کا شکار ہوتے ہیں۔ ٹائٹینیم پر قدرتی TiO₂ غیر فعال تہہ Pt سطحی تہہ کے ساتھ مل کر جارحانہ HT-PEMFC آپریٹنگ حالات میں دوہری سنکنرن تحفظ فراہم کرتی ہے۔

 

• ہائی{{0}درجہ حرارت کے آپریشن کو سپورٹ کرتا ہے۔

ٹائٹینیم بیس مواد HT-PEMFC آپریٹنگ ٹمپریچر ونڈو (120–200 ڈگری) میں طاقت اور جہتی استحکام کو برقرار رکھتا ہے، کاربن GDLs کے برعکس جو انحطاط پذیر یا پولیمر الیکٹرولائٹ جھلی جو مشترکہ تھرمل اور آکسیڈیٹیو تناؤ کے تحت نرم ہو جاتے ہیں. 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم HT{4} اور ایکس پی ایف سی کے لیے مکینیکل سالمیت اور برقی تسلسل بغیر رینگنے یا خرابی کے۔

 

• فاسفورک ایسڈ میں انوڈ-سائیڈ گیس ڈفیوژن لیئر (GDL)-ڈوپڈ PBI میمبرین سسٹمز – HT-120–200 ڈگری پر کام کرنے والی PEMFCs عام طور پر فاسفورک ایسڈ کے ساتھ ڈوپڈ پولی بینزیمیڈازول جھلیوں کو الیکٹرکونٹ کے طور پر استعمال کرتے ہیں۔ 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم پھیلا ہوا میش روایتی کاربن-کی بنیاد پر GDLs کی جگہ لے لیتا ہے جو اعلی انوڈک پوٹینشل اور آکسیجن ایوولوشن ری ایکشن حالات کے تحت CO₂ میں آکسائڈائز ہوتا ہے، جب کہ علاج نہ کیے جانے والے ٹائٹینیم میں Insulating TiO₂ بڑھتا ہے جو انٹرفیشل رابطے کی مزاحمت کو بڑھاتا ہے۔ پلاٹینم کوٹنگ TiO₂ کی تشکیل کو روکتی ہے اور پورے MEA میں مستحکم برقی چالکتا کو برقرار رکھتی ہے۔

• آف-گرڈ CHP سسٹمز میں موجودہ کلیکٹر اور فلو فیلڈ ڈسٹری بیوٹر – HT-مشترکہ حرارت اور پاور ایپلی کیشنز میں استعمال ہونے والے PEMFC جنریٹرز رہائشی حرارت یا گرم پانی کی فراہمی کے لیے فضلہ کی حرارت کو بحال کرتے ہیں۔ 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم کی توسیع شدہ میش کی کھلی ہوئی ڈائمنڈ-شکل کی توسیع شدہ میش ڈھانچہ الیکٹروڈ ایکٹو ایریا میں ریفارمیٹ گیس کو یکساں طور پر تقسیم کرتا ہے جبکہ موثر پانی کے بخارات کو ہٹانے کے قابل بناتا ہے، جو کہ اہم ہے کیونکہ HT-PEMFCs گیس والا پانی تیار کرتا ہے جس کے لیے علیحدہ مرطوب نظام کی ضرورت نہیں ہوتی ہے۔

• ایوی ایشن فیول سیل اسٹیک میں پی ٹی ایل (غیر محفوظ ٹرانسپورٹ پرت) – ایوی ایشن سیکٹر کو HT-PEMFCs کی ضرورت ہوتی ہے جس میں پانی کا آسان انتظام اور کم سسٹم وزن ہوتا ہے. 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم ایکسپینڈڈ میش فنکشنز کیٹالسٹ پرت اور بائی پولر پلیٹ کے درمیان غیر محفوظ ٹرانسپورٹ پرت کے طور پر، کسی بھی دھات کی سب سے زیادہ{2} طاقت کی پیشکش کرتا ہے۔ تیزابی آپریٹنگ ماحول میں ٹائٹینیم کی سنکنرن مزاحمت کے ساتھ مل کر، کاربن پر مبنی مواد کی پائیداری کی حدود کے بغیر۔

• انوڈ-سائیڈ ڈفیوژن میڈیم برائے ہیوی-ڈیوٹی وہیکل پاور سسٹم – HT-PEMFCs کو درمیانے-سے-لمبے-ہیوی ٹرکوں اور سمندری معاون پاور یونٹس کے لیے تیار کیا جا رہا ہے جہاں ایندھن کی لچک (میتھانول، سی او ایل این جی کے بعد ضروری ہے)۔ 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم توسیعی میش کا چپٹا اور اینیل شدہ سطحی پروفائل پورے خلیے میں مسلسل رابطے کے دباؤ کو یقینی بناتا ہے، اعلی-موجودہ-کثافت کے آپریشن کے تحت یکساں ہائیڈروجن کی تقسیم کی سہولت فراہم کرتے ہوئے جھلی کے پنکچر کو روکتا ہے۔

• اسٹیشنری پاور جنریشن میں الیکٹروڈ سپورٹ ڈھانچہ - HT-بیس لوڈ بجلی کی پیداوار کے لیے PEMFC ٹیکنالوجی کو استعمال کرنے والے فکسڈ پاور پلانٹس کو کم سے کم تنزلی کے ساتھ ہزاروں آپریشنل گھنٹے درکار ہوتے ہیں. 1µm پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم توسیعی میش ایک جہتی طور پر مستحکم الیکٹروڈ سپورٹ کے طور پر کام کرتا ہے، جس میں 1µm پلاٹینم کوٹنگ 2000/00 سینٹی میٹر کی حفاظت ہوتی ہے۔ CP-گیس کے پھیلاؤ کے لیے درکار کھلی پورسٹی کو محفوظ رکھتے ہوئے آکسیڈائزنگ انوڈ ماحول میں گزرنے سے Ti سبسٹریٹ۔

• میتھانول ریفارمیٹ کے لیے فلو فیلڈ پلیٹ جزو-ایندھن سے چلنے والا HT-PEMFCs – HT-میتھانول ریفارمنگ سے تیار ہونے والے ہائیڈروجن پر چلنے والے PEMFC سسٹم نمایاں کارکردگی کے نقصان کے بغیر 3% تک CO کی حراستی کو برداشت کرتے ہیں۔ توسیع شدہ ٹائٹینیم میش ڈھانچے کو ٹائٹینیم شیٹس کے ساتھ ساتھ کمپوزٹ بائی پولر پلیٹوں میں ضم کیا جا سکتا ہے، جس سے میکانیکل سپورٹ اور ریفارمیٹ آپریشن کے لیے درکار موجودہ ترسیل فراہم کی جا سکتی ہے جبکہ پلاٹینم کوٹنگ نجاستوں کو ٹریس کرنے کے لیے طویل نمائش کے تحت انٹرفیشل چالکتا کو برقرار رکھتی ہے۔

 

کاربن-کی بنیاد پر گیس کی بازی کی تہہ

پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم توسیعی میش

کاربن-کی بنیاد پر گیس ڈفیوژن لیئرز (GDLs) الیکٹرو کیمیکل طور پر الیکٹرولائزر کے انوڈ سائیڈ سے مطابقت نہیں رکھتی ہیں۔ انوڈک پولرائزیشن اور آکسیجن ایوولوشن ری ایکشن (OER) حالات کے تحت، کاربن تھرموڈینامک طور پر کاربونیٹ آئنوں میں آکسائڈائز ہوتا ہے (الکلائن میڈیا میں) یا براہ راست CO₂ گیس (تیزابی میڈیا میں)، جھلی الیکٹروڈ اسمبلی کے مقامی pH ماحول پر منحصر ہوتا ہے۔ یہ آکسیکرن-اکثر کاربن سنکنرن رد عمل (COR) کہلاتا ہے-سیل وولٹیج میں ایک غلط، مختصر-لائیو ڈراپ پیدا کرتا ہے۔ کاربن GDL پھر تیزی سے ختم ہو جاتا ہے، جس سے ایک جسمانی خلا رہ جاتا ہے اور اسٹیک کمپریشن کا سبب بنتا ہے، جو برقی رابطے کی مزاحمت کو بڑھاتا ہے اور مستقل طور پر الیکٹرولیسس کی کارکردگی کو کم کرتا ہے۔ اس وجہ سے، کاربن-کی بنیاد پر GDLs اینوڈ سائیڈ کے لیے موزوں نہیں ہیں، حالانکہ کاربن کپڑا یا کاربن پیپر اب بھی کیتھوڈ سائیڈ پر استعمال کیا جا سکتا ہے جہاں آکسیجن کا ارتقاء نہیں ہوتا اور کاربن مستحکم رہتا ہے۔

ٹیلی فون: 0917-3873009

فون: +86 18992731201

ای میل:zhangjixia@bjygti.com

فیکس: 0917-3873009

پتہ: نمبر. 195، گاوکسین ایونیو، ہائی-ٹیک ڈیولپمنٹ زون، باوجی سٹی، شانشی، چین

WhatsApp: +86 18992731201

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: ht-pemfc، چین، سپلائرز، مینوفیکچررز، اپنی مرضی کے مطابق، استعمال، قیمت کی فہرست، برائے فروخت، اسٹاک میں، مفت نمونہ، غیر محفوظ مواد کے لیے 1um پلاٹینائزڈ ٹائٹینیم توسیع شدہ میش